産業部会　5月定例部会のお知らせ

産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続
けております．
第217回5月定例部会のプログラムをお知らせいたします．
今回も2名の講師をお 呼びしております．前半のご講演は，多くのニーズに対応
したさまざまなプラズマ源についてです．マイクロ波励起プラズマ源を中心に，
開発の意図，動作および性能等を紹介していただきます．後半のご講演は，成膜
面への負イオン衝撃や反跳粒子の入射を抑えることができ，機能性磁性薄膜・酸
化物薄膜の作製に適している対向ターゲット式スパッタ法に関するものです．こ
の方法の原理と適応例，および高速成膜への指針などについて紹介していただき
ます．
終了後には，恒例となっている講師を交えた懇親会も開催しますので，さらに深
く突っ込んだディスカッションや情報交換の場としてご活用ください．
多数のご参加をお待ち申し上げております．

日　時：平成19年5 月16日(水) 14:00〜16:30 
場　所：機械振興会館B3-1号室（地下3階）
参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　―プログラム―

開会挨拶　　　　　　　　（日本真空協会産業部会長）　及川永　14:00〜14:10 

1. 用途に応じたマイクロ波プラズマ源の開発 
　　　　　　　　　　　　　　　　（アリオス技術部）　佐藤進　14:10〜15:10

　　　　　　　　　　　　　　　休　憩

2. 対向ターゲット式スパッタ法による機能性磁性薄膜・酸化物薄膜
　　（東京工業大学大学院理工学研究科電子物理専攻）中川茂樹　15:30〜16:30 

なお，講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000 円）を開催します．
講師への質問，相互の情報交換等，有意義なディスカッションができますので，
こちらにも多数ご参加下さい．

◎次回の開催予定：平成19年6月20日(水) 機械振興会館

申込み・問合せ先：日本真空協会事務局（荻野）
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL：03-3431-4395 
　　　　　　　　　FAX：03-3433-5371 
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org