産業部会 ５月定例部会のお知らせ

　産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続けて
おります．第225回となる5月定例部会のプログラムをお知らせいたします．
　前半は，ナノテクノロジーを中心とする新技術によって民生用の電子デバイス・機器
の技術開発を行っている企業の研究所によるご講演です．研究方針，研究開発，機器・
設備の概要について紹介していただき，研究開発の一つの柱となっているナノポア応用
技術について論じていただきます．ナノサイズのメモリ開発，高性能ガスセンサ開発の
現状，ならびに真空技術との関連についても紹介していただきます．
　後半は，マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド合成技術を高度化し，大型単
結晶合成や応用に適合したダイヤモンドの作成技術を作り上げ，デバイス化技術から様々
な応用分野へ展開を進める研究のご紹介です．その研究の基礎となる化学気相合成ダイ
ヤモンドの成長とその評価，特にカソードルミネッセンス法より得られる光物性研究の
成果を中心にご講演いただきます．
　終了後には，講師を囲んでの懇親会も開催いたします．さらに深く突っ込んだディス
カッションや情報交換の場としてご活用ください．
　多数のご参加をお待ち申し上げております．


日　時：平成20年5月14日（水）14:00-16:30
場　所：機械振興会館　B3-2号室（地下3階）
参加費：無　料

　　　　　　　　　　　　　　―プログラム―

開会挨拶　　　　　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　及川　永　14:00-14:10

１．船井電機新応用技術研究所の概要―ナノポア応用技術を中心に―
　　　　　　　　　　　（（株）船井電機新応用技術研究所）小野雅敏　14:10-15:10

　　　　　　　　　　　　　　　ー休　憩ー

２．化学気相合成ダイヤモンドの成長とその評価 
　　　　（産業技術総合研究所　ダイヤモンド研究センター）渡邊幸志　15:30-16:30

なお，講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への
質問、相互の情報交換等，有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数
ご参加下さい．

次回の開催予定：　平成20年6月18日（水）

申込み・問合せ先：日本真空協会事務局（荻野）
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3431-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org