産業部会は,真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続けております.第237回と
なる10月定例部会のプログラムをお知らせいたします.定例部会終了後には,毎回恒例となっております講師
を囲んでの懇親会を開催いたします.さらに深く突っ込んだディスカッションや情報交換の場としてご活用くだい.
多数のご参加をお待ち申し上げます.
日 時:平成21年10月22日(木)14:00〜16:30
場 所:機械振興会館B3-1 号室(地下3 階)
参加費:無料
ープログラムー
開会挨拶 (日本真空協会 産業部会長) 土岐和之 14:00〜14:10
1.スパッタリング膜とその応用 (化合物膜を中心として)
((有)アーステック 代表,名古屋大学 客員准教授) 小島 啓安 14:10〜15:10
[講演要旨]
スパッタリングを用いた酸化物膜,窒化物膜の用途は広がっている.プロセスとしては,アーキング対策,
コストダウンのための高速成膜技術,カソード技術が重要になってきている.パルス電源などを含めた
技術の進歩と実際の応用例について解説する.
|
休 憩
2.ネオン固体表面上からイオン衝撃脱離するクラスターイオンの観測
(東京理科大学 助教) 立花 隆行 15:30〜16:30
[講演要旨]
入射イオンと固体表面との相互作用は、表面微細加工、表面分析、薄膜作製などへの応用上の関心から
盛んに研究されてきた。この中で、希ガスイオンと希ガス固体表面との相互作用については、希ガス原子が
他の原子と電子的な相互作用を行なわないため、化学結合を形成しうる系に比べて機構を単純化して考察
できる利点がある.講演では,Ne固体に1.0keVのArイオンを入射した際の相互作用について,主に脱離する
粒子の観測結果から述べる.
|
講演終了後,講師をお招きして懇親会(会費2,000円)を開催します.講師への質問,
相互の情報交換等,有意義なディスカッションができますので,こちらにも多数ご参加
下さい.
◎次回の開催予定:平成21年12月16日(水).
申込み・問合せ先:日本真空協会事務局(荻野)
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
TEL:03-3431-4395 FAX:03-3431-5371
E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
|