産業部会は年6回，産業界と大学・研究機関から講師をお招きして講演会（例会）を開催しています．
　本例会では，成膜技術としてユニークな特長を持つALD（Atomic Layer Deposition）の基礎から最新の動向
　と新規な検出方式によるガスセンサーの特性について，それぞれこの分野でご活躍の講師にご講演をお願い
　しました．皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．

　日　時：平成23(2011)年5月18日（水）14:00〜16:30
　場　所：機械振興会館（芝公園）B3-2号室（地下3 階）
　参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

　開会挨拶　　　　　　　　　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　土岐　和之　14:00〜14:10

　１．発展するALD技術とその応用
                        （(株)ハイテック・システムズ　取締役）　川名　喜之　14:10〜15:10

　　［講演要旨］

　 近年ALDの応用は半導体，flat panel display などに止まらず，極めて広範囲な分野に拡大しつつあり，
　開発競争の激化をもたらしている．新ALD膜用のprecursor及び成膜技術の開発，高速，大面積基板への
　応用などの装置技術の開発も加速されつつある．それらの状況を報告する．


　　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩


　２．真空技術と表面科学を用いた大気分析の新しい展望
                                 （(独法)物質・材料研究機構）　板倉　明子  15:30〜16:30

　　［講演要旨］

　 麻薬や爆発物など，危険物ガスの検出については，犬など嗅覚に優れた動物に頼っているのが現状ですが，
　吸着状態や，表面構造，物性変化を反映した吸着の動的過程を検出することで，大気圧から真空の範囲での
　ガス分析が可能です．ガスセンシングのトピックと，現在研究を着手している表面応力を利用した環境ガス
　分析について紹介する．



　　講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，会員相互の情報交換
　等，　有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　　なお，例会，懇親会に参加ご希望の方は準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたし
　ます．

　申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空協会　事務局
　　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org