日本真空学会 産学連携委員会
平成25年6月例会(第266回)のお知らせ


  産学連携委員会の6月例会は,真空機器の輸入商社の講師から日本製品の海外販促には何が必要か,彼我のメー
 カーの考え方などのご講演と,本年7月に開催予定のISSP2013の実行委員長の講師から,最新の研究トピックス,
 今後の課題などご講演頂きます.国際化の時代,皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます.


 日 時:平成 25(2013)年 6 月 19 日(水)14:00〜16:30
 場 所:機械振興会館(芝公園) B3−1号室(地下3階)
 参加費:無料

                  −プログラム−

 開会挨拶              (日本真空学会 産学連携委員会 委員長) 土岐 和之 14:00〜14:10

 1.真空機器の輸入商社としての役割と今後の課題
                      ((株)テクノポート 営業部 部長) 吉田 秀樹 14:10〜15:10

  [講演要旨]
  弊社では「世界にはまだまだおもしろい製品があります」をキャッチコピーとして,コミュニケーションを大切に  20年間海外メーカーと取引をしてきました.時差,為替そして人種と難しい問題もたくさんありました.今後は,海  外メーカーの販売戦略を参考に日本の製品を海外へ輸出するお手伝いができればと考えています.
                  休  憩(15:10〜15:30)  2.スパッタ成膜プロセスの研究開発動向 〜ISSP2013 に向けて〜                  (成蹊大学 理工学部 物質生命理工学科 助教) 中野 武雄 15:30〜16:30   [講演要旨]
  スパッタリング成膜は大面積コーティングに適し,半導体やディスプレイへの応用をはじめ,すでに多くの分野で  利用されています.研究開発も依然盛んに行なわれており,この7月に本学会が主催して行われる ISSP2013 でも,  多数の発表がなされる予定です.この講演では,反応性プロセスによる化合物膜堆積,イオン化促進スパッタによる  膜構造制御といった研究トピックを紹介,スパッタ成膜になおまだ求められている課題について,問題意識を共有い  ただければと思います.
 講演終了後,講師をお招きして交流会(会費2,000円)を開催します.講師への質問,相互の情報交換等,有意義な  ディスカッションができますので,こちらにも多数ご参加下さい.  なお,例会,懇親会に参加ご希望の方は準備の都合上,事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたします.  申込み・問合せ先:一般社団法人 日本真空学会 事務局           〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室           TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371           E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org