産学連携委員会の今回の例会は，『イオンを用いた成膜』をキーワードとして，産業界からは平成26年
　度「第2回 真空の匠」に顕彰されました神港精機(株)名誉顧問：川下安司氏（顕彰業績名「イオンプレー
　ティング成膜装置の開発」）にお話をいただき，学会側からは，イオンを用いた成膜と表面改質について
　の論文，解説，著作を多数ご発表されている工学院大学教授：鷹野一朗先生にご講演をいただきます．
　皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．


　日　時：平成 27（2015）年 3月 17日（火）14:00〜16:30
　場　所：機械振興会館（東京都港区芝公園　東京タワー前）　B3−1号室（地下3階）
　参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

　開会挨拶　　　　　　　　　　　　　　（日本真空学会　産学連携委員会）　入江 則裕　14:00〜14:10

　1. “イオンプレーティング成膜装置” 開発の歴史と販売への取り組み
　　　　　　　　　　（神港精機株式会社  名誉顧問（元代表取締役社長））　川下 安司　14:10〜15:10

　　［講演要旨］

　　今やタッチパネルはスマートフォン・タブレットだけでなく，あらゆる電子機器デバイスの入力インター
　　1970年前後から公害問題が非常に大きく取り上げられ，無公害めっきを目的に開発に着手したが，採算面
　が合わなかった．その頃はＰＶＤで硬質皮膜が作製されていなかったので，超硬質膜を開発して切削工具へ
　の応用を試みた．その時，TiNの金色がきれいなことから時計の装飾へも適用した．切削工具関係は販売戦略
　を失敗し，軌道に乗るのに時間がかかった．しかし，装飾関係は初年度こそ苦労したが，次年度から徐々に
　拡販へと進んだ．

　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩（15:10〜15:30）

　2. イオンビームを用いた薄膜形成と表面改質
　　　　　　　　　（工学院大学  工学部 電気システム工学科 学科長  教授）
　　　　　　　　　（工学院大学 総合研究所  ECECセンター長）　　　　　　　鷹野 一朗　15:30〜16:30

　　［講演要旨］

　　これまでイオンビーム技術を応用して，様々な薄膜形成と表面改質に取り組んできた．薄膜形成としては，
　イオンビームと蒸着を組み合わせたイオンミキシング法により，低融点基板へ銅薄膜を高い密着性でコーティ
　ングする方法や，高い形成温度を必要する酸化チタン薄膜のコーティングについて検討している．表面改質と
　しては，環境に配慮した生分解性樹脂の表面強化やPTFE表面へのイオンビーム照射による表面形態の変化につ
　いて紹介する．


　　講演終了後，交流会を開催します．相互の情報交換，講師との懇談など，有意義なディスカッションが
　　できますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　　時間：講演終了後〜18:30， 場所：「うすい」（機械振興会館地下3F）， 会費：3,000円
　
　　なお，本例会・交流会に参加ご希望の方は，準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願い
　　いたします．

　申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　事務局
　　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org