第49巻第10号目次

小特集「電子遷移誘起脱離の最近の展開」

(序論) 電子遷移誘起脱離の小特集に寄せて-------谷村克己           −解  説− 半導体表面におけるレーザー光誘起脱離の電子的機構  ----------------------------------金崎順一・谷村克己 トンネル電子が誘起する吸着分子のダイナミクス  --------------------- 長谷川和彦・松本茂野・笠井秀明 希ガス固体表面における電子遷移誘起脱離  ----------------------------------荒川一郎・平山孝人 半導体表面からの励起電子誘起脱離(I) ハロゲン吸着シリ  コンへの電子・正孔注入の場合------首藤健一・田中正俊 水素分子の光刺激脱離メカニズム------福谷克之・岡野達雄 電子遷移誘起脱離研究の先駆者,石川義興博士および太田芳  雄博士の業績紹介------------------間瀬一彦・南部 英

一般論文

          −解  説− 摩擦空間のマイクロプラズマ--------------------中山景次           −研  究− 大気圧プラズマを用いた円筒型高分子材料の表面改質  ----------------------小田川健二・貞本 満・小野 茂

オンラインジャーナル