第51巻第3号目次
第48回真空に関する連合講演会 プロシーディングス
−速 報−
二段式流量分配法による分圧真空計の校正サービス
--------------吉田 肇・新井健太・秋道 斉・平田正紘
理想的な円筒形からのずれによるオリフィスコンダクタンス
の変化------------------城 真範・秋道 斉・平田正紘
軟X線多層膜鏡の形状誤差補正のための大面積イオン銃を用
いたミリング装置の開発
--------------戸坂亜希・酒井 優・津留俊英・山本正樹
高周波マグネトロンスパッタリング法におけるPb(Zr,Ti)O3
膜のターゲット依存性--吉田大一郎・西 崇宏・岸田 悟
MgO(001)劈開面上の水酸基の観察
------------------------牧田欧子・高木祥示・後藤哲二
SiC(0001)-(3×3)表面への銅フタロシアニン吸着の走査トン
ネル顕微鏡観察------------------田中圭介・碇 智徳・
内藤正路・西垣 敏・生地文也
Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
----------------------寅丸雅光・小林直人・大野真也・
首藤健一・宮本泰敬・河村紀一
電子誘起脱離が起こったイオン結晶に対する表面チャネリン
グの観察--------------深澤優子・光原 圭・松本雄吾・
後藤友彦・鈴木康文
New Simple Photoemission Electron Microscope with an
Energy Filter-------Laszlo TOTH, Hiroyuki MATSUDA,
Tatsuya SHIMIZU, Fumihiko MATSUI, Hiroshi DAIMON
ネオン固体表面上からイオン衝撃脱離するクラスターイオン
の観測--------------立花隆行・深井健太郎・藤田慎也・
小泉哲夫・平山孝人
高周波プラズマ支援スパッタリング法によるTi薄膜の構造お
よび物性制御----------------------大谷寿幸・草野英二
Mn-Ir/Co-Fe積層膜の構造と磁気特性に及ぼすスパッタガス
種の影響--------------今北健一・小林慶子・小野一修・
森田 正・山本直志・三沢俊司・村上裕彦
反射電子顕微鏡法とミクロ4端子プローブ法による表面・電
気伝導その場計測---------?野慶佑・矢澤博之・箕田弘喜
大気圧プラズマジェット照射による銅ワイヤー絶縁被膜の局
所剥離----------------------------吉木宏之・星川陽祐
水晶振動子センサー計測によるプラズマ気相成分の空間分布
測定------------------------------鈴木 淳・野中秀彦
光照射を重畳したCF3イオンビームによるSiO2エッチング率
の測定----------------幾世和将・吉村 智・滝澤敏史・
唐橋一浩・木内正人・浜口智志
窒化ハフニウムフィールドエミッタアレイの耐久性の評価
----宮田雄高・神澤太郎・後藤康仁・辻 博司・石川順三
ナノ粒子を利用した原子間力顕微鏡の探針先端形状効果の補
正--------------------------------大西桂子・藤田大介
Organic Field-Effect Transistors Based on Vapor-Depos-
ited Pentacene and Soluble Pentacene Precursor
-----------Xin WANG, Shizuyasu OCHIAI, Kenzo KOJIMA,
Asao OHASHI and Teruyoshi MIZUTANI
パルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
の仕事関数制御--------吉田和夫・青木孝憲・鈴木晶雄・
松下辰彦・奥田昌宏
可塑性樹脂基板上に成膜したZnO膜の物性評価
----------井上竜ノ介・吉田尚正・松田七美男・田巻 明
パルスレーザー堆積法によりシクロオレフィンポリマー基板
に作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛系透明導電膜
----------------------中村篤宏・道畑良太・青木孝憲・
鈴木晶雄・松下辰彦・奥田昌宏
誘導結合プラズマ支援型アンバランスマグネトロンスパッタ
法によるCu薄膜の作製------------烏帽子良・村岡裕紀・
黒川重雄・橘 瑛宏・蓮井友城・川畑敬志
Nドープ酸化タングステン薄膜の作製と評価-----中川晃一・
三浦 登・松本節子・中野鐐太郎・松本皓永
パルスレーザー堆積法により作製したモリブデン酸化物光記
録膜の光記録特性------三代一真・青木孝憲・鈴木晶雄・
松下辰彦・奥田昌宏
反応性スパッタ法による酸化ビスマス薄膜の堆積とレーザー
照射による光学特性変化
--------------上村隆久・沖村邦雄・村田吉正・後藤廣則
オクタデシルトリクロロシラン処理された石英ガラス基板上
のポリ(3-ヘキシルチオフェン)薄膜の形態と非線形光学
特性------------------山田 有・落合鎮康・小嶋憲三・
大橋朝夫・水谷照吉
ポリ(3-ヘキシルチオフェン)を用いた光双安定素子の作成と
その性能評価--------------------磯貝考治・落合鎮康・
小嶋憲三・大橋朝夫・水谷照吉
フッ素樹脂をターゲットとして高周波スパッタリングにより
作製した有機フッ素薄膜の特性
------------------------毛塚和哉・上村彰宏・岩森 暁
ポリエステルフィルム上に成膜した金属蒸着膜の引張特性と
密着性------------------北 拓也・斉藤 翔・岩森 暁
高周波電力を重畳した直流反応性スパッタ法によるTaAl-N薄
膜の作製------------岡野夕紀子・田尻修一・青園隆司・
岡本昭夫・小川倉一・美馬宏司
スピン量子十字構造の作製に向けたポリエチレンナフタレー
ト有機膜上の強磁性ニッケル薄膜における表面観察
------------------------海住英生・小野明人・石橋 晃
カーボンナノ粒子の生成に与える紫外線の効果とナノ粒子の
強度評価------吉村敏彦・竹田浩輔・国貞安將・阿部浩也
低エネルギー質量分離イオンビーム照射装置を用いた
SiO2/Si基板へのインジウムイオン注入-------日根清裕・
吉村 智・唐橋一浩・木内正人・浜口智志
高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価
----野中秀彦・一村信吾・小杉亮治・福田憲司・荒井和雄
1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによる
シリコン酸化膜成長:赤外吸収スペクトルによる解析
----中村 健・野中秀彦・亀田直人・西口哲也・一村信吾
励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適
用----------亀田直人・斉藤 茂・西口哲也・森川良樹・
花倉 満・野中秀彦・一村信吾
−報 告−
第48回真空に関する連合講演会開催報告
--------------------------------杉山直治・佐々木正洋
|