日本表面科学会 第５7回表面科学研究会
日本真空協会　２００８年２月研究例会

テーマ：　原子・分子クラスタビームの新展開−現状と展望−

　クラスタイオンビーム技術が開発されて久しくなりますが、近年その技術がさ
らに発展して、クラスタビムビームの反応性、超平坦加工、表面処理、極薄層ドー
ピングなど成膜・プロセシング・分析に利用されるようになってきました。本研
究会では、クラスタビームの研究開発および応用の最前線でご活躍の先生方に現
状と展望をわかりやすくお話しいただきます。関連分野および興味をお持ちの研
究者・技術者多数のご参加をお待ちしております．

日　時：２００８年２月１５日(金)１３：００−１６：３０（受付　１２:３０−）
場　所：機械振興会館 地下３階Ｂ３-２号室	東京都港区芝公園３−５−８

　　　　　　　　　　　　　−講演プログラム−

開会の挨拶　　　（日本表面科学会企画委員長）　中村友二　　　13：00−13：05

1. クラスタビームと物質表面の相互作用：電子的相互作用について
　　　　　　　　　　　　　中川幸子　（岡山理科大学理学部）　13：05−13：40

【概要】クラスターイオンと固体表面の相互作用シミュレーションも、原子間の
弾性衝突を追尾するについては、ほぼ完成域に達していると思われます。但し、
電子的な過程が無視出来ればと言う大前提の下に。講演では、電子的過程の重要
性について考察します。

2. ガスクラスターイオンビーム技術の最近の進展
　　　　　　　　　　　　　松尾二郎　（京都大学工学研究科）　13：40〜14：25

【概要】新しいイオンビームとして、クラスターイオンビームが注目を集めてい
る。数百以上の大きなクラスターサイズを発生することのできるガスクラスター
イオンビーム技術は、ナノプロセッシングや表面分析の分野で高いポテンシャル
を有している。本技術の最新の成果と併せて、国際的な研究動向を紹介する。


3．金属クラスタ錯体イオンビームの発生とその応用
　　　　　　　　　　　　　藤原幸雄　（産業技術総合研究所）　14：25−15：00

【概要】「金属クラスター錯体」という巨大分子を用いたクラスター・イオンビー
ム源を開発し、極浅不純物注入シリコン基板や有機薄膜の二次イオン質量分析
（SIMS）に応用し、その有用性を実証したので報告する。

　        　　　　　　　　　　　−休憩−

4. C60イオンビームによる表面分析
　　　　　　　　　　　　　　野副尚一　（アルバックファイ）　15：15−15：50

5. 帯電水滴衝撃イオン化法の基礎と応用
　　　　平岡賢三　（山梨大学クリーンエネルギー研究センタ）　15：50−16：25

【概要】大気圧エレクトロスプレーで生成した帯電水滴を真空に導き、10kVで加
速して、金属基板上の試料に衝突させた。バイオ試料、合成高分子、半導体など
が、原子／分子レベルでエッチングされ、表面下層試料の破壊はほとんど見られ
ないことが分かった。これは、水分子の水素原子が、表面と断熱的に衝突相互作
用すること、および水滴の水素結合が衝撃エネルギーを効率よく衝撃波として散
逸させること、に起因する。

閉会の挨拶　　　　　（日本真空協会研究部会長）　荒川一郎　　16：25−16：30


参加費：（当日会場にて御支払いください．）
　　　　日本表面科学会会員、日本真空協会会員　1,500円
　　　　非会員　2,500円　　 学生　無料
予稿集：1,000円

問い合わせ先：
　　日本表面科学会　TEL：03-3812-0266　FAX：03-3812-2897
		　　e-mail:shomu@sssj.org
　　　　　　　　　　URL: http://www.sssj.org/kenkyukai/kenkyu_57.html
　　日本真空協会　　TEL：03-3431-4395  FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　e-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
　　　　　　　　　　URL：http://wwwsoc.nii.ac.jp/vsj/