日本真空協会 2011 年 2 月研究例会
日本表面科学会 第67回表面科学研究会

In-situ モニタリングの視点からみた表面制御・評価技術 〜現状と課題〜

　新機能材料・デバイスの作製工程は，真空をはじめとする制御された雰囲気下で行われるため，
特殊な光や電子線などを駆使した表面計測技術と組み合わせることで精密な制御能力を備えること
が出来る．しかしながら応用現場では，分解能などの本質的な問題は勿論，コスト的な問題などと
いった付随的な問題まで様々な制約から，このようなポテンシャルをもつ計測技術はその威力を十
分発揮し得ていない．このような問題意識のもと，表面計測・制御技術の研究・開発の最前線にお
られる方々を講師としてお招きし，in-situ モニタリングの利用者の視点を交えて議論する機会と
して，研究会を開催致します．多数のご参加をお待ちしております．


　　       案内（PDF 118KB, DOC 33KB）
 
日　時：平成23年2月2日(水)
　　　　13:00〜16:45（受付12:30〜）
　　　　
場　所：機械振興会館 地下３階Ｂ３−２号室
　　　　　　　東京都港区芝公園３−５−８
　　　　　　　電話 ０３−３４３１−４３９５ 日本真空協会（直通）

参加費：（当日会場にて御支払いください）
　　　　日本真空協会会員及び日本表面科学会会員 1,500 円
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　非会員 2,500 円
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　学生 無料
予稿集：1,000 円

　　　　　　　　　　　　　　　―講演プログラム―

開会の挨拶　　　　　　　　　　　　　（日本真空協会研究部会部会長）　杉山 直治　13:00〜13:05
１．「ナノ世代における半導体プロセス計測評価技術」
　　　　　　　　　　　　　（（独）産業技術総合研究所）　　　　　　　金山 敏彦　13:05〜13:45
２．「光干渉法を用いたプラズマエッチング中の非接触基板温度・膜厚モニタリング」
　　　　　　　　　　　　　（和歌山大学）　　　　　　　　　　　　　　太田 貴之　13:45〜14:25
３．「表面反射分光によるSi 表面反応過程のリアルタイム計測」
　　　　　　　　　　　　　（横浜国立大学大学院工学研究院）　　　　　田中 正俊　14:25〜15:05
−休憩−
４．「III-V 太陽電池の高効率化に向けた有機金属気相成長プロセスのin situ 表面モニタリング」
　　　　　　　　　　　　　（東京大学大学院工学系研究科総合研究機構）杉山 正和　15:20〜16:00
５．「自己形成量子ドット成長過程のその場観察と新規光デバイスの作製」
　　　　　　　　　　　　　（神戸大学大学院工学研究科）　　　　　　　喜多 隆　　16:00〜16:40
閉会の挨拶　　　　　　　　（日本表面科学会企画委員長）　　　　　　　笹川 薫　　16:40〜16:45
                                                  　　　　　　　　　　　　　　　　　 以上


問い合わせ先：日本真空協会　TEL 03-3431-4395  FAX 03-3433-5371
　　　　　　　　e-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
　　　　　　　　URL : http://www.vacuum-jp.org
　　　　　　　日本表面科学会　TEL 03-3812-0266  FAX 03-3812-2897
　　　　　　　　e-mail:shomu@sssj.org
本件担当　　　日本真空協会研究部会　（東芝研究開発センター）　　　杉山　直治
　　　　　　　　　　　　　　　　　　（富士通研究所）　　　　　　　松倉　祐輔