スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第132回定例研究会
テーマ：「プラズマ計測・診断の最前線」

　プラズマは、スパッタリング法をはじめとする各種薄膜成長手法やRIE、ICP等の微
細加工プロセス等で幅広く用いられていますが、用途により最適なプラズマ特性は異
なるため、その特性を把握することが極めて重要となります。本研究会では、この様
なプラズマプロセスの理解と制御という観点から注目度がますます高まりつつある「
プラズマ計測・診断」に関する最近の動向を紹介するべく、第一線でご活躍の皆様を
講師としてお招きしました。本研究会に多数の方が参加され、スパッタリングおよび
プラズマプロセス分野の更なる発展に繋がる知見が得られることを期待致します。
皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております。

日　　時：平成25年3月14日（木）　13:00〜16:45 (受付 12:30〜)
場　　所：機械振興会館　地下3階　B3-6号室
　　　　 （東京都港区芝公園3-5-8）

講演プログラム:
「プロセスプラズマの電子状態モニタ用平板型マイクロ波共振器プローブ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　中部大学　中村 圭二　13:00〜13:40

「低気圧放電窒素プラズマの発光分光計測〜温度計測と解離度測定の新展開」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　東京工業大学　赤塚 洋　　13:40〜14:20

「スパッタ製膜プロセスにおけるプラズマ電位の計測・制御と薄膜構造への効果」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　成蹊大学　中野 武雄　14:20〜15:00

　　　　　　　　　　　　　―　休憩　―　　　　　　　　　　　　 15:00〜15:20

「水晶振動子センサーによる窒化プラズマ診断」　
　　　　　　　　　　　　　　　　産業技術総合研究所　鈴木 淳　　15:20〜16:00

「汎用的なラングミュアプローブの製品化」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　アリオス株式会社　佐藤 進　　16:00〜16:40


参加費：1.SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2.日本真空学会個人会員　　　　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空学会法人会員　　　　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　　　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　\28,000


問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org