スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
平成26年度技術講習会

　日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会では，毎年，技術講習会を開催しております．
平成26年度は，下記のとおり，プロセス用プラズマの生成・計測・応用について徹底的に解説いたします．
スパッタリングや各種プラズマプロセスに携わる若手・中堅技術者に最適な講習会です．
多数のご参加をお待ち申し上げます．

　　　　　　　　　　　　　　　　　記

日　時　平成26年12月8日(月) 午前 10:00 〜 12:00
 　　　　　　　　　　　　　　午後  1:00 〜  4:30

会　場　機械振興会館 地下3階 B3-1号室

講　師　中村 圭二（中部大学工学部　電気システム工学科　教授）

題　目　プロセス用プラズマの生成・計測・応用

講義内容
　　　1．プラズマ生成
　　　　1.1 プラズマの構成粒子
　　　　1.2 プラズマの電位とシース形成
　　　　1.3 荷電粒子およびラジカルの生成と維持
　　　　1.4 プラズマの各種生成法
　　　　　　（直流放電，静電結合型高周波プラズマ，誘導結合型高周波プラズマ，マイクロ波プラズマ）
　　　2．プラズマのプロセスへの応用
　　　　2.1 プロセスにおけるプラズマの役割
　　　　2.2 プラズマに曝された表面での現象（堆積，エッチング，スパッタリング，注入）
　　　　2.3 実際のプロセス例
　　　3．プラズマ計測
　　　　3.1 電気的手法〜ラングミュアプローブ
　　　　3.2 波動的手法〜表面波プローブ（プラズマ吸収プローブ）
　　　　3.3 光学的手法〜発光分光法，アクチノメトリ法，吸収分光法
　　　　3.4 粒子的手法〜質量分析法，出現質量分析法

受講料（テキスト代と昼食代を含みます.）
　　　　スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員　10,000円
　　　　日本真空学会会員　　　　　　　　　　　　　　　　　30,000円
　　　　一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　40,000円
　　　　学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 5,000円

定　員　30名

申込方法　申込用紙にご記入の上，12月2日(火)までにお申し込み下さい．
　　　　　 なお，定員になり次第締め切らせていただきます．

申込先　一般社団法人日本真空学会事務局
　　　　　TEL 03-3431-4395　FAX 03-3433-5371
　　　　　e-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org