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真空展「薄膜の基本技術講座-真空蒸着:成膜の基礎および光学薄膜」<申込受付中>

9月 8日 @ 15:00 - 17:00


スクールコース
薄膜の基本技術講座
真空蒸着:成膜の基礎および光学薄膜
-VACUUM2017 真空展併催-

日 時
9月8日(金) 15:00~17:00
会 場
パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室
定 員
54名
主 催
一般社団法人日本真空学会
参加のおすすめ
真空の存在は,紀元前4世紀頃にはギリシアの哲学者の間で論じられていたそうです.しかし,スパッタ現象の発見や,真空蒸着の試みが実際に行われたのは19世紀半ばでした.そして,1930年代に拡散ポンプが完成すると,まず真空蒸着が実用化され,光学反射防止膜に利用されました.その後,いろいろな成膜技術が実用化され発展しますが,現在でも,光学薄膜は真空蒸着が主要な成膜技術です.
本講座では,真空を利用した薄膜作製技術や装置の基礎的な事項と,多層の積層膜を利用する光学薄膜について紹介します.

聴講料(テキスト代、消費税込み)
一般5,000円,学生1,000円  ※当日受付にてお支払いください.
テキスト
講義で使用するプレゼンテーションファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものを当日配布します.
講 師
大工原 茂樹(前日本真空学会事務局長,元(株)シンクロン)
問合せ先
一般社団法人日本真空学会
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
TEL: 03-3431-4395  FAX: 03-3433-5371  E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org
申込方法
こちらの申し込みページからお申込みください.
※お申込み完了後,受付完了メールが自動返信されます.
  受付完了メールが届かない場合は,事務局までご連絡ください.

講義内容(講義2時間,休憩,質疑を含む)
1.真空についての基礎的な事項
2.真空蒸着装置の構成と要素
3.真空蒸着による薄膜作製時のポイントと注意点
4.真空蒸着の発展技術~イオンプレーティング,イオンビームの併用
5.各種光学薄膜について

詳細

9月 8日
15:00 - 17:00
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