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関西支部 第10回実用技術セミナー<申込受付中>

2018年1月26日 @ 13:00 - 17:00


日本真空学会関西支部 第10回実用技術セミナー
-新しい成膜・膜構造制御技術と応用例-

 
 真空蒸着やスパッタリング法などの物理蒸着法や熱やプラズマ等を用いた化学蒸着法は,我々の生活を支えるための基盤技術として必要不可欠なものとなっています.最近では,地球温暖化抑制のため,様々な機器やデバイスのさらなる省エネルギー化や小型・軽量化が進められています.成膜技術においても,これらの実現に向けた新しい手法や膜構造制御技法が,開発され,実用化が図られています.本セミナーでは,これらの研究・開発・製造に携わっておられる第一線の研究者・技術者の方々に講演していただきます.

主 催
日本真空学会関西支部
協 賛
エレクトロニクス実装学会関西支部,応用物理学会関西支部,大阪科学技術センター,大阪府技術協会,化学工学会,化学工学会エレクトロニクス部会,近畿高エネルギー加工技術研究所,高分子学会,自動車技術会,新無機膜研究会,精密工学会関西支部,センシング技術応用研究会,電気化学会,電気学会,電子情報通信学会,日本機械学会関西支部,日本材料科学会,日本材料学会関西支部,日本真空工業会,日本電機工業会,日本表面科学会,日本物理学会,日本包装コンサルタント協会関西支部,ニューセラミックス懇話会,表面技術協会 (依頼中含む)
日 時
2018年1月26日(金) 13:00~17:00
場 所
株式会社島津製作所 関西支社 マルチホール 交通アクセス
〒530-0012 大阪市北区芝田1丁目1-4 阪急ターミナルビル14階
TEL: 06-6373-6522  FAX: 06-6373-6524
参加費 ※当日会場にてお支払いください.
日本真空学会会員 2,000円,協賛学協会会員 3,000円,一般 5,000円,学生 1,000円(消費税込)
定 員
60名
講演プログラム
13:00~13:10 開催の挨拶
13:10~14:00 原子層堆積(ALD)技術とその応用奈良先端科学技術大学院大学 浦岡 行治
14:00~14:50 酸化ガリウム半導体とミストCVD成膜株式会社FLOSFIA(フロスフィア) 國枝 浩二
14:50~15:10 休憩
15:10~16:00 高分子ナノ相分離を利用した分子輸送チャンネルデバイスの開発同志社大学 彌田 智一
16:00~16:50 電気と熱を同時制御可能とするナノ構造技術の開発大阪大学 中村 芳明
16:50~17:00 閉会の挨拶日本真空学会関西支部長 桑原 裕司

申込締切
2018年1月22日(月)
申込方法
こちらの申し込みページからお申込みください.
※お申込み完了後,受付完了メールが自動返信されます.
  受付完了メールが届かない場合は,事務局までご連絡ください.
問合せ先
一般社団法人日本真空学会関西支部 実用技術セミナー担当 澤田 泰幸(神港精機株式会社)
TEL: 078-332-3400  E-mail: y-sawada@shinko-seiki.com


詳細

2018年1月26日
13:00 - 17:00
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主催者

日本真空学会関西支部