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スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第157回定例研究会

3月 13日 @ 13:00 - 16:40

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第157回定例研究会
テーマ:「圧電デバイスとその応用」

 水晶や特定のセラミックス等で見られる圧電効果を利用した“圧電デバイス”は,マイクロフォン,アクチュエーターから高周波フィルター,発信器まで様々な領域で大量に使用されており,スマートフォンには多くの“圧電デバイス”が搭載されております.
 本研究会ではこれらに関する最新の技術動向を,大学,研究機関およびメーカーから最前線で活躍中の講師をお招きして講演していただきます.本研究会に多数の方が参加され,スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展,製品化につながる知見が得られることを期待します.多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます.

 

日 時
2018年3月13日(火) 13:00~16:40 (受付12:30~)
場 所
機械振興会館 地下3階 B3-6号室 (東京都港区芝公園3-5-8) 交通アクセス
講演プログラム
高周波弾性波デバイスの現状とプラズマプロセスの役割(千葉大学) 橋本 研也 13:00~13:40
 
機能性材料薄膜を用いたMEMS製造技術((株)アルバック) 小林 宏樹 13:40~14:20
 
圧電MEMSデバイスに向けた圧電薄膜の電圧印加時の結晶構造解析(神戸大学) 譚 ゴオン 14:20~15:00
 

休憩 (15:00~15:20)

振幅/位相測定による水晶式膜厚計((株)昭和真空) 古泉 秀樹 15:20~16:00
 
窒化アルミニウム圧電薄膜への元素添加の影響(産業技術総合研究所) 上原 雅人 16:00~16:40
 

参加費 ※当日受付にてお支払いください.
SP部会員  無料
日本真空学会個人会員  23,000円
日本真空学会法人会員  18,000円
教育機関,公的機関に属する者  12,000円
学生   5,000円
一般  28,000円
申込方法
申込みは終了しました.

問合せ先
一般社団法人日本真空学会 事務局
TEL: 03-6801-6264  FAX: 03-3812-2897  E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org

主催者

日本真空学会