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真空展「真空蒸着:成膜の基礎および光学薄膜」<申込受付中>

9月 7日 @ 12:30 - 14:30


2018真空展 スクールコース
「薄膜の基本技術講座」
―真空蒸着:成膜の基礎および光学薄膜―

日 時
2018年9月7日(金) 12:30~14:30
会 場
パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室 E204号室 交通アクセス
(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
主 催
公益社団法人日本表面真空学会
参加のおすすめ
真空の存在は,紀元前4世紀頃にはギリシアの哲学者の間で論じられていたそうです.しかし,スパッタ現象の発見や,真空蒸着の試みが実際に行われたのは19世紀半ばでした.そして,1930年代に拡散ポンプが完成すると,まず真空蒸着が実用化され,光学反射防止膜に利用されました.その後,いろいろな成膜技術が実用化され発展しますが,現在でも,光学薄膜は真空蒸着が主要な成膜技術です.
本講座では,真空を利用した薄膜作製技術や装置の基礎的な事項と,多層の積層膜を利用する光学薄膜について紹介します.
講 師
大工原茂樹(元日本真空学会事務局長・元株式会社シンクロン)
講義内容(講義2時間,休憩,質疑を含む)
1.真空についての基礎的な事項
2.真空蒸着装置の構成と要素
3.真空蒸着による薄膜作製時のポイントと注意点
4.真空蒸着の発展技術~イオンプレーティング,イオンビームの併用
5.各種光学薄膜について
聴講料(テキスト代・消費税込)
一般 5,000円,学生 1,000円
テキスト
講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したもの.
定 員
54名(定員になり次第締切とさせていただきます)
申込方法
こちらの申し込みページからお申込みください.
※お申込み完了後,受付完了メールが自動返信されます.
 受付完了メールが届かない場合は,事務局までご連絡ください.

申込締切
2018年9月3日(月)
※余席があれば当日参加も受け付けます.
 会議室E204号室前の受付までお越しください.
問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266  FAX: 03-3812-2897  E-mail: office@jvss.jp

詳細

9月 7日
12:30 - 14:30
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主催者

日本表面真空学会