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スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第160回定例研究会

10月 16日 @ 13:00 - 16:50

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第160回定例研究会・ISSP2019プレセッション
テーマ:「Science-based Sputtering and Plasma Processes for the IoT Era」

 スパッタリングを中心としたプラズマプロセスは,古くから様々なデバイス・製品に応用され,現在も産業にとって欠かすことのできないキーテクノロジーとなっています.International Symposium on Sputtering and Plasma Processes(ISSP)は,第1回目の開催となった1991年以降,基礎研究,材料開発から,製品化技術に至る幅広い情報を交換・議論する場を提供して参りました.隔年開催で15回目を迎えるISSP2019を来年6月に開催する予定としております.これに先立ち,SP部会の定例研究会としてISSP2019プレセッションを開催致します.「Science-based Sputtering and Plasma Processes for the IoT Era」というメイントピックのもと,様々な産業分野・各種デバイス開発の第一線でご活躍の研究者・技術者の方々にご講演を頂きます.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.
 

日 時
2018年10月16日(火) 13:00~16:50 (受付12:30~)
場 所
機械振興会館 地下2階 B2-1号室  交通アクセス
(東京都港区芝公園3-5-8)
講演プログラム  講演時間40分(質疑応答5分間含む)

13:00~13:05 開会の挨拶ISSP2019実行委員会 委員長 (東北大学) 後藤哲也

13:05~13:45
「酸化物ターゲットを用いたマグネトロンプラズマ中における高エネルギー粒子の診断」
(名古屋大学) ○豊田浩孝,Bae Hansin,宇田川洸,三矢晃洋,鈴木陽香

 

13:45~14:25
「RF-マグネトロンスパッタリング法で成膜した二次元半導体MoS2薄膜のMISFETチャネル応用」
(東京工業大学1,明治大学2) ○松浦賢太朗1,清水淳一1,外山真矢人1,大橋 匠1,坂本拓朗1
宗田伊理也1,石原聖也2,角嶋邦之1,筒井一生1,小椋厚志2,若林 整1

 

14:25~15:05
「金属触媒を用いた多結晶Ge薄膜の低温形成」(芝浦工業大学) 弓野健太郎

休憩 (15:05~15:25)

15:25~16:05
「水晶微小天秤法並びに色素インジケータを用いた活性酸素種の検知技術」(東海大学) 岩森 暁

 

16:05~16:45
「RFマグネトロンスパッタリング法による元素添加生体内溶解性非晶質リン酸カルシウム膜の作製とその評価」
(東北大学) ○上田恭介, Jun Wu, 小笠原康悦, 成島尚之

 

16:45~16:50 閉会の挨拶 日本表面真空学会SP部会 部会長 (京都大学) 後藤康仁

 

参加費 ※当日受付にてお支払いください.
SP部会員  無料
日本表面真空学会個人正会員  3,000円
日本表面真空学会法人正会員,維持会員,賛助会員に属する方  3,000円
教育機関,公的機関に属する方  3,000円
学生  1,000円
一般  5,000円
申込方法
申込みは終了しました.
申込締切
2018年10月12日(金)

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-6801-6264  FAX: 03-3812-2897  E-mail: office@jvss.jp
本件担当
日本表面真空学会 SP部会(東北大学)後藤哲也(ISSP2019実行委員長)

主催者

日本表面真空学会