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スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第155回定例研究会<申込受付中>

10月 31日 @ 13:00 - 16:40

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第155回定例研究会
テーマ:「固体材料および薄膜中のプロトンの移動」

 水素は超高真空領域での真空システムの到達圧力を決定づけるガスであり,真空科学にとって,表面および固体中での水素の挙動は古くから重要な問題であり続けてきました.しかしながら,水素の定量を行える分析手法は限られており,この問題へのアプローチを困難なものとしていました.
 一方,近年になって,固体中の水素(プロトン)の出し入れによって物性を制御できる材料系が次々と提案・実用化され,またエネルギー応用に関連した,水素と固体との相互作用も精力的に研究されるようになってきました.
 これらの背景をうけて,本研究会では水素を利用したデバイスや応用,水素の定量あるいは排気などに関して,第一線の研究者の方々に,研究開発の内容を紹介していただく機会を設けることとしました.今回は,年に一度の,参加費を安く設定している研究会でもあります.本分野に興味を持つ多くの皆様のご参加を心よりお待ちしております.

 

日 時
2017年10月31日(火) 13:00~16:40 (受付12:30~)
場 所
機械振興会館 地下3階 B3-1号室 (東京都港区芝公園3-5-8) 交通アクセス
講演プログラム
調光ミラーの実用化に向けて(産総研 構造材料研究部門) ○山田保誠 13:00~13:40
 
含水多孔質ガラスを用いたオンデマンド赤外線透過率-導電率制御デバイス13:40~14:20
(東工大フロンティア研1,JSTさきがけ2,北大電子研3) ○片瀬貴義1,2,太田裕道3
 
窒化チタン微結晶膜におけるヒドリドイオン伝導の発現とそれによる常温水素膜分離14:20~15:00
(北大工1,北大総合化学院2)○青木芳尚1,倉 千晴2,國貞雄二1,朱 春宇1,幅崎浩樹1
 

休憩 (15:00~15:20)

金属薄膜からの水素透過イメージング15:20~16:00
(物材機構1,東邦大2) ○宮内直弥1,村瀬義治1,板倉明子1,高木祥示2
 
無酸素Ti-Pd薄膜を利用した高真空~超高真空領域における真空排気16:00~16:40
(総研大物構1,弘前大院理工2,横国大院工3,KEK物構研4
宮澤徹也1,飛嶋健佑2,夏井祐人2,寺島 矢2,加藤博雄2,栗原真志3,大野真也3,菊地貴司4,○間瀬一彦4

 

参加費 ※当日受付にてお支払いください.
SP部会員  無料
日本真空学会会員  3,000円
学生  1,000円
一般  5,000円
申込方法
こちらの申し込みページからお申込みください.
※お申込み完了後,受付完了メールが自動返信されます.
  受付完了メールが届かない場合は,事務局までご連絡ください.
問合せ先
一般社団法人日本真空学会 事務局
TEL: 03-3431-4395  FAX: 03-3433-5371  E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org

主催者

日本真空学会