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スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第162回定例研究会

9月 13日 @ 13:00 - 16:40

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第162回定例研究会
テーマ:「酸化バナジウム薄膜の作製とその応用」

 酸化バナジウムは熱,光および電場などの外部からの刺激により,モット絶縁体から金属状態へと転移する典型的な強相関電子系材料であり,数十年にわたり実験的・理論的研究が精力的に行われてきました.特に抵抗に関しては,室温付近で数桁におよぶ巨大な変化を伴うため,不揮発性メモリや高感度センサ,および高速スイッチング素子などの応用研究も盛んに行われています.
 本研究会では,酸化バナジウムを用いた研究の第一線で活躍されている講師の先生方をお招きし,薄膜成長,基礎物性および新規デバイス応用などに関する最新の動向をご講演いただきます.本研究会で,スパッタリングおよびプラズマプロセス技術が酸化バナジウムの研究・開発にどのように貢献出来るのか,活発な議論を通じて意見交換ができることを期待しています.多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます.
 

日 時
2019年9月13日(金) 13:00~16:40
場 所
岡山大学 理学部 1階大会議室 交通アクセス
〒700-8530 岡山市北区津島中3丁目1-1
講演プログラム  ※講演時間40分(質疑応答5分間含む)

VO2の薄膜作製について(岡山大学異分野基礎科学研究所) 村岡 祐治 13:00~13:40

原子層物質上へのVO2薄膜成長と新奇トランジスタ応用(大阪大学産業科学研究所) 山本 真人 13:40~14:20

VO2電子相転移を利用した電子・光デバイス(産総研エレクトロニクス・製造領域研究戦略部) 澤  彰仁 14:20~15:00

 

休憩 (15:00~15:20)

光反応プロセスを用いたVO2薄膜の低温成長と応用展開(産総研先進コーティング技術研究センター) 土屋 哲男 15:20~16:00

 

反応性スパッタリングによるVO2薄膜作製とその応用(東海大学工学部) 沖村 邦雄 16:00~16:40

*講演終了後,懇親会(有料)を予定しております.詳細は決まり次第掲載します.

参加費 ※当日受付にてお支払いください.
SP部会員  無  料
日本表面真空学会個人正会員  23,000円
日本表面真空学会法人正会員,維持会員,賛助会員に属する方  18,000円
教育機関,公的機関に属する方  12,000円
学生   1,000円
一般  28,000円
申込方法
こちらの申し込みページからお申込みください.
※お申込み完了後,受付完了メールが自動返信されます.
 受付完了メールが届かない場合は,事務局までご連絡ください.
申込締切
2019年9月10日(火)

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266  FAX: 03-3812-2897  E-mail: office@jvss.jp
本件担当
日本表面真空学会SP部会(大阪大学レーザー科学研究所)川山 巌

詳細

9月 13日
13:00 - 16:40
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